一、產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞：石墨烯導電銀漿分散機,銀粉漿料分散機,銀漿復合分散機,高剪切分散機,高速膠體磨,膠體研磨機

二、銀漿的性質(zhì)與生產(chǎn)：

銀漿系由高純度金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設備對銀粉的分散是至關(guān)重要的，當然分散劑的應用也是*的。            

納米銀粉分散混合設備，納米銀粉分散，銀粉比表面積較大，易發(fā)生團聚很難分散，如何將銀粉制成銀漿？銀漿的制備，炭黑的制備，銀粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散機可幫您解決此類難題。

三、XMD2000石墨烯導電銀漿分散機

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考：

采用XMD2000/4研磨分散機，進行研磨細化。

7L罐體（罐體大小后期可選擇）及循環(huán)系統(tǒng)，易于批次物料處理。

攪拌機進行攪拌預混，提高產(chǎn)品的均勻性。

我司研磨分散機為超高速設備（轉(zhuǎn)速18000rpm），需要配冷水機對機械密封進行降溫。

同時需要配置一臺變頻器，進行轉(zhuǎn)速調(diào)試，設備開關(guān)，有利于保護設備。

研磨分散機處理銀漿優(yōu)勢：

結(jié)合客戶實驗案例，采用研磨分散機進行銀粉處理，不僅生產(chǎn)效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言，物料損失更小。  

銀粉研磨分散設備采用*的結(jié)構(gòu)設計將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機合二為一，并配合超高速的轉(zhuǎn)速，轉(zhuǎn)速可達14000rpm，研磨分散效果更佳。                
 

XMD2000系列研磨分散機參數(shù)表：